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건식 공정 기반 후막 양극용 고자유도 전해액 시스템 및 기능성 첨가제 개발(재공고)[수의] 입찰결과

R26BK01535737

건식 공정 기반 후막 양극용 고자유도 전해액 시스템 및 기능성 첨가제 개발(재공고)[수의]

공고기관

한국기계연구원

수요기관

한국기계연구원

개찰일시

2026년 5월 22일

사업자등록번호

3148201980

대표자명

이광형

낙찰금액

5800.0만

낙찰율

98.305%

진행상태

개찰완료

참가업체수

1개사

개찰일시: 2026년 5월 22일

전체 투찰 내역 (총 1건)

순위
업체명
투찰금액
상태
대표자: 이광형
투찰율: 98.305%

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