세부품명번호2321118001세부품명웨이퍼식각기물품규격○ 프로세스 챔버
- 물질 : 스테린리스(Sus, electro polishing), Size: I.D 250 pi x 250 pi
- 진공 게이지 포트, 시료 척 포트, 관측 포트, 펌핑 포트
○ 가스 샤워 플레이트
- 마운팅 : tope flange
- RF 바이어스 가능
- 가스 주입 : 1/4“ lok type
○ 시료 척
- 마운팅: bottom flange, RF bias available, Sample size: to 8 inch dia
○ 진공 펌핑 유닛
- 로타리 펌프 (400 L/min)
- 앵글 밸브 : NW40(공압형)
- 펌핑 어댑터, 클램프, centering
○ 가스 공급 유닛
- 유량 제어기 (O2 100 sccm)
- Diaphram valve (1/4“ VCR type, pneumatic, 2ea)
- 가스 혼합 탱크 & 라인
○ 진공 측정 유닛
- 저진공 게이지 : to 10-3 Torr & Controller
○ 자동 압력 조절 유닛
- Monitorized pressure control throttle valve (NW40)
- 압력 제어기 & 케이블 (APC200)
- 캐패시턴스 모노미터 (10 torr)
○ RF 발생기 & 자동 매칭 네트워크
- RF 발생기 (600 W)
- 자동 매칭 네트워크 & 케이블
○ 시스템 제어 유닛 & 프레임
- 시스템 제어 : 터치스크린 조작을 통한 반자동 제어
- 메인전원 On/Off 스위치
- 철제 프레임
- 유량 제어물품수량1 대물품단가61,050,000원물품분류 제한여부아니오제조여부아니오배정예산금액61,050,000원 